研究方向：

集成電路先進製造中的光刻及量測技術

教育背景😦：

2013年09月～2019年06月 沐鸣娱乐信息科學與工程沐鸣，光學🧘🏼，博士

2009年09月～2013年06月 沐鸣娱乐物理系，本科

工作學術經歷：

2022年09月-至今 沐鸣💇🏼‍♂️，青年副研究員

2019年07月-2022年08月 上海集成電路研發中心有限公司，新型器件和材料實驗室，光刻工程師

獲獎或榮譽💆🏿：

2021年 國際先進光刻技術研討會優秀張貼報告獎（IWAPS 2021）

代表性成果🚵🏼👈🏽：

1.Qi Wang, Yayi Wei, Qiang Wu, Yanli Li, Xianhe Liu,“An optical critical dimension (OCD) model analysis on 3nm complementary FET (CFET) gate stacks”,Proc. SPIE Vol. 124962Q (IEEE Xplore, 2023)

2.Qi Wang, Qiang Wu, Xianhe Liu, Yanli Li,“The Analysis of Optical Critical Dimension (OCD) Signal Strength Between 5 nm FinFET and 3 nm Complementary FET (CFET) Vertical Gate Stacks” ,Proc. China Semiconductor Technology International Conference (IEEE Xplore, 2023) 

3.Yanli Li, Yayi Wei, Qiang Wu, Xianhe Liu, Qi Wang*,“A study of diffraction-based overlay (DBO) on a 3nm CFET metal layer” Proc. SPIE Vol. 124962Y (IEEE Xplore, 2023)

4.Qi Wang, Haihua Chen, Shaojian Hu,Verified Optical Scatterometry Model for Line-Space and Fin-FET Structures, Proc.IWAPS 2021 P-08, (IEEE Xplore, 2021)

5.Qi Wang, Aihua Yang, Qiang Wu, Yuhang Zhao,“Optical Scatterometry Modeling of 5 nm Logic Metal Gate Structures”, Proc. China Semiconductor Technology International Conference (IEEE Xplore, 2020)